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氬離子拋光（離子研磨CP）

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氬離子拋光（離子研磨CP）

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項目介紹

氬離子拋光技術/離子研磨CP（Cross section Polisher）用于SEM、EPMA、EBSD等樣品的制備。

依靠離子束轟擊制備樣品剖面，可以獲得表面平滑的樣品，觀察范圍大、清潔而且適用于幾乎所有材料，而不會對樣品造成機械損害。

去除損傷層，從而得到高質量樣品。

樣品要求

1.送樣前需要對樣品進行預處理：樣品預磨拋，樣品要磨平，樣品的上下表面要平行，樣品拋光面至少用4000目砂紙磨平，在顯微鏡下看起來光滑，不粗糙;

2. 送測樣品的尺寸要求:塊狀樣品：以待拋光區(qū)域為中心點，樣品直徑不超過30mm、厚度0~20mm。（超出部分需要磨平）粉末樣品：10g以上;

3. 樣品準備2-3片；

4. 預約時認真填寫樣品信息以及測試目的，必要時上傳參考圖片或文件。

項目案例
常見問題
1、通常塊狀金屬和陶瓷除FIB制樣外，還可以用什么方法制備TEM樣品？

可以采用離子減薄或者電解雙噴制樣。

2、離子減薄方法適用于哪種樣品？

1.不導電的陶瓷樣品；

2.要求質量高的金屬樣品；

3.不宜雙噴電解的金屬與合金樣品。

3、雙噴電解減薄適用于哪些樣品？

1.不易于腐蝕的裂紋端試樣；

2.非粉末冶金試樣；

3.組織中各相電解性能相差不大的材料。

4、離子減薄容易引入的雜質？

很可能引入Ar，Ar離子作為制樣的離子源。

5、電解雙噴制樣可能引入的雜質？

溶液可能引入對應的元素，如高氯酸溶液引入Cl。

氬離子拋光（離子研磨CP）

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