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RIE反應(yīng)離子刻蝕

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RIE反應(yīng)離子刻蝕

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項(xiàng)目介紹

RIE反應(yīng)離子腐蝕技術(shù)是一種各向異性很強(qiáng)、選擇性高的干法腐蝕技術(shù)。

它是在真空系統(tǒng)中利用分子氣體等離子來(lái)進(jìn)行刻蝕的，利用了離子誘導(dǎo)化學(xué)反應(yīng)來(lái)實(shí)現(xiàn)各向異性刻蝕，即是利用離子能量來(lái)使被刻蝕層的表面形成容易刻蝕的損傷層和促進(jìn)化學(xué)反應(yīng)，

同時(shí)離子還可清除表面生成物以露出清潔的刻蝕表面的作用。

主要用于Si、SiO2、SiNx、半導(dǎo)體材料、聚合物、金屬的刻蝕以及光刻膠的去除等，廣泛應(yīng)用于物理，生物，化學(xué)，材料，電子等領(lǐng)域。

樣品要求

1.樣品載物臺(tái)最大可放置 8 寸硅片；小樣品只要可放在載物臺(tái)亦可；

2.樣品可以是多晶硅柵電極，石英材料，鍺材料等；

3.若需進(jìn)一步溝通，請(qǐng)聯(lián)系技術(shù)老師。

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RIE反應(yīng)離子刻蝕

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