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X射線衍射儀（XRD）

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 傅里葉紅外光譜儀（FTIR）

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 液體核磁共振（NMR）

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 激光共聚焦拉曼光譜儀（Raman）

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 電子自旋共振波譜儀（ESR/EPR）

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 紫外可見(jiàn)近紅外光譜（UV/VIS/NIR）

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 紫外光電子能譜（UPS）

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 固體核磁共振儀（SSNMR）

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 X射線小角/廣角散射儀（SAXS/WAXS）

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 單晶衍射（XRD）

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 熱重質(zhì)譜聯(lián)用儀（TG-MS）

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 圓二色光譜儀（CD）

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 X射線全巖定量分析（XRD）

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 掠入射XRD（GIXRD）

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 低場(chǎng)核磁共振成像系統(tǒng)（MRI）

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 紅外反射率、透過(guò)率、發(fā)射率、漫反射測(cè)試

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 極圖/宏觀織構(gòu)測(cè)試（XRD）

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 顯微紅外

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 高溫/低溫液體核磁（NMR）

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 微區(qū)XRD

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 原位電化學(xué)電子自旋共振波譜儀（ESR/EPR）

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 原位拉曼

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 高分辨XRD（HRXRD）

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 和頻振動(dòng)光譜（SFG）

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 拉曼-熒光聯(lián)用

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 正電子湮滅壽命譜儀（PAT）

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 偏振拉曼測(cè)試

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 太赫茲時(shí)域光譜儀（TDS）

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 原位（變溫）紫外光譜

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 泡壓法膜孔徑分析儀

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 位錯(cuò)密度測(cè)試

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 多組分競(jìng)爭(zhēng)吸附儀（穿透曲線分析儀）

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 液相色譜-電感耦合等離光譜儀/質(zhì)譜儀（HPLC-ICP/MS）

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 二次諧波（SHG）

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 納米紅外（AFM-IR）

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 SEM-拉曼聯(lián)用

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常見(jiàn)問(wèn)題

Q&A

Q：到底是發(fā)論文還是申請(qǐng)專(zhuān)利？
A：論文和專(zhuān)利都是技術(shù)的載體，論文審稿側(cè)重考察數(shù)據(jù)是否可靠、結(jié)論是否準(zhǔn)確，發(fā)明專(zhuān)利會(huì)經(jīng)過(guò)新穎性或創(chuàng)造性的審查，授權(quán)后獲得獨(dú)占權(quán)而受到法律保護(hù)，自己在先公開(kāi)的論文會(huì)導(dǎo)致在后申請(qǐng)的專(zhuān)利失去新穎性或創(chuàng)造性，對(duì)于同一方案務(wù)必先申請(qǐng)專(zhuān)利再發(fā)表論文。
Q：專(zhuān)利申請(qǐng)為什么要趁早？
A：1.要防止創(chuàng)意或產(chǎn)品推出前被模仿。2.相關(guān)技術(shù)更新迭代、層出不窮，慢一步就會(huì)導(dǎo)致他人先公開(kāi)自己的創(chuàng)意而無(wú)法獲得專(zhuān)利權(quán)。3.專(zhuān)利可以在升學(xué)評(píng)獎(jiǎng)、職稱(chēng)考核、高企認(rèn)定等過(guò)程中添加砝碼，競(jìng)爭(zhēng)激烈，提早準(zhǔn)備更容易命中目標(biāo)。
Q：哪些不能申請(qǐng)專(zhuān)利？
A：1. 科學(xué)發(fā)現(xiàn);3. 疾病的診斷和治療方法;4. 動(dòng)物和植物品種;5. 用原子核變換方法獲得的物質(zhì);6. 對(duì)平面印刷品的圖案、色彩或者二者的結(jié)合作出的主要起標(biāo)識(shí)作用的設(shè)計(jì)。
Q：發(fā)明和實(shí)用新型有何區(qū)別？
A：1.保護(hù)客體不同，發(fā)明專(zhuān)利保護(hù)產(chǎn)品、方法或者改進(jìn)所提出的新的技術(shù)方案，實(shí)用新型專(zhuān)利只保護(hù)產(chǎn)品的形狀、構(gòu)造或者其結(jié)合所提出的適于實(shí)用的新的技術(shù)方案。2.審批程序不同，發(fā)明專(zhuān)利需要經(jīng)過(guò)實(shí)質(zhì)審查以確定滿足新穎性、創(chuàng)造性和實(shí)用性，審查時(shí)間更長(zhǎng)，實(shí)用新型不需要經(jīng)過(guò)實(shí)質(zhì)審查，創(chuàng)造性和技術(shù)水平較發(fā)明專(zhuān)利低，但實(shí)用價(jià)值大。3.保護(hù)期限不同，發(fā)明專(zhuān)利權(quán)的期限為二十年，實(shí)用新型專(zhuān)利權(quán)的期限為十年，外觀設(shè)計(jì)專(zhuān)利權(quán)的期限為十五年，均自申請(qǐng)日起計(jì)算。
Q：什么是技術(shù)交底書(shū)？
A：技術(shù)交底書(shū)是發(fā)明人和代理師溝通的基礎(chǔ)，應(yīng)當(dāng)涵蓋現(xiàn)有技術(shù)的問(wèn)題是什么，發(fā)明人提出了什么樣的解決方案，達(dá)到了何種效果，以及希望保護(hù)的核心技術(shù)要點(diǎn)是什么，應(yīng)當(dāng)盡可能記錄技術(shù)內(nèi)容，充分描述技術(shù)細(xì)節(jié)，提供有力的證明材料，如此才能撰寫(xiě)更高質(zhì)量的專(zhuān)利。
Q：如何才能更快獲得發(fā)明專(zhuān)利授權(quán)？
A：1.優(yōu)先審查，涉及特定的高端制造、節(jié)能環(huán)保、新材料、新能源等特殊領(lǐng)域，可以申請(qǐng)優(yōu)先審查，最快可在6-8個(gè)月獲得發(fā)明專(zhuān)利授權(quán)。2.通過(guò)保護(hù)中心的預(yù)審加快審查，進(jìn)入快速審查通道，可進(jìn)一步壓縮授權(quán)時(shí)間。
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