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顯微成像 成分分析 結(jié)構(gòu)分析 物性分析 聲光電磁 熱學(xué)性能 力學(xué)性能 原位測(cè)試 材料加工 環(huán)境試驗(yàn) 同步輻射 現(xiàn)場(chǎng)/云現(xiàn)場(chǎng)
全自動(dòng)物理吸附儀（BET）

全自動(dòng)物理吸附儀（BET）

已預(yù)約22212次

平均周期5天  |  總體滿意度99.1%

立即預(yù)約

 Zeta電位及納米粒度分析儀（DLS）

Zeta電位及納米粒度分析儀（DLS）

已預(yù)約9825次

平均周期3.6天  |  總體滿意度99.9%

立即預(yù)約

 激光粒度分析儀

激光粒度分析儀

已預(yù)約5603次

平均周期3.8天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 全自動(dòng)壓汞儀（MIP）

全自動(dòng)壓汞儀（MIP）

已預(yù)約7141次

平均周期5.3天  |  總體滿意度99.89%

立即預(yù)約

 常溫/高溫凝膠色譜（GPC）

常溫/高溫凝膠色譜（GPC）

已預(yù)約10164次

平均周期6天  |  總體滿意度99.5%

立即預(yù)約

 接觸角測(cè)試（CA）

接觸角測(cè)試（CA）

已預(yù)約7584次

平均周期4.2天  |  總體滿意度98%

立即預(yù)約

 化學(xué)吸附儀（TPD/TPR/TPO）

化學(xué)吸附儀（TPD/TPR/TPO）

已預(yù)約9417次

平均周期8天  |  總體滿意度98%

立即預(yù)約

 差示掃描量熱儀（DSC）

差示掃描量熱儀（DSC）

已預(yù)約8592次

平均周期5.7天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 高級(jí)旋轉(zhuǎn)流變儀

高級(jí)旋轉(zhuǎn)流變儀

已預(yù)約4173次

平均周期7天  |  總體滿意度99.5%

立即預(yù)約

 真密度測(cè)試

真密度測(cè)試

已預(yù)約2546次

平均周期3天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 固體/薄膜表面ZETA電位儀

固體/薄膜表面ZETA電位儀

已預(yù)約3856次

平均周期6.6天  |  總體滿意度98.8%

立即預(yù)約

 橢偏儀

橢偏儀

已預(yù)約3443次

平均周期7天  |  總體滿意度99.6%

立即預(yù)約

 卡爾費(fèi)休水分測(cè)試儀

卡爾費(fèi)休水分測(cè)試儀

已預(yù)約2122次

平均周期7.4天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 基質(zhì)輔助激光解吸-飛行時(shí)間質(zhì)譜儀（MALDI-TOF-MS）

基質(zhì)輔助激光解吸-飛行時(shí)間質(zhì)譜儀（MALDI-TOF-MS）

已預(yù)約3624次

平均周期6.4天  |  總體滿意度98.1%

立即預(yù)約

 氣體透過率測(cè)試儀

氣體透過率測(cè)試儀

已預(yù)約2377次

平均周期12天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 折射率測(cè)試

折射率測(cè)試

已預(yù)約3904次

平均周期8天  |  總體滿意度99.8%

立即預(yù)約

 硬度測(cè)試

硬度測(cè)試

已預(yù)約3205次

平均周期5天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 旋轉(zhuǎn)粘度計(jì)

旋轉(zhuǎn)粘度計(jì)

已預(yù)約2117次

平均周期7天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 動(dòng)態(tài)水分吸附測(cè)試儀（DVS）

動(dòng)態(tài)水分吸附測(cè)試儀（DVS）

已預(yù)約3067次

平均周期2天  |  總體滿意度99.1%

立即預(yù)約

 臺(tái)階儀

臺(tái)階儀

已預(yù)約2351次

平均周期3.5天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 礦物自動(dòng)分析儀（MLA）

礦物自動(dòng)分析儀（MLA）

已預(yù)約4555次

平均周期15天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 低場(chǎng)核磁共振成像系統(tǒng)（MRI）

低場(chǎng)核磁共振成像系統(tǒng)（MRI）

已預(yù)約3229次

平均周期13天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 智能重量分析儀（IGA）

智能重量分析儀（IGA）

已預(yù)約2526次

平均周期10天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 振實(shí)/松裝密度測(cè)定儀

振實(shí)/松裝密度測(cè)定儀

已預(yù)約2149次

平均周期5天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 納米顆粒跟蹤分析儀（NTA）

納米顆粒跟蹤分析儀（NTA）

已預(yù)約2835次

平均周期4.7天  |  總體滿意度98.9%

立即預(yù)約

 毛細(xì)管流變儀

毛細(xì)管流變儀

已預(yù)約2411次

平均周期5天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 熱變形維卡軟化點(diǎn)試驗(yàn)機(jī)

熱變形維卡軟化點(diǎn)試驗(yàn)機(jī)

已預(yù)約1432次

平均周期4天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 全自動(dòng)高溫高壓氣體吸附儀

全自動(dòng)高溫高壓氣體吸附儀

已預(yù)約4470次

平均周期15天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 比色儀

比色儀

已預(yù)約1428次

平均周期4天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 霧度測(cè)試

霧度測(cè)試

已預(yù)約1564次

平均周期7天  |  總體滿意度99%

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 粉體流變儀FT4

粉體流變儀FT4

已預(yù)約1455次

平均周期6.5天  |  總體滿意度98%

立即預(yù)約

 熔融指數(shù)

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已預(yù)約2137次

平均周期5天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 液體密度計(jì)

液體密度計(jì)

已預(yù)約1323次

平均周期5天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 石英晶體微天平（QCM）

石英晶體微天平（QCM）

已預(yù)約160次

平均周期5天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 粉末電阻率&壓實(shí)密度儀

粉末電阻率&壓實(shí)密度儀

已預(yù)約41次

平均周期5天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 高溫接觸角測(cè)試

高溫接觸角測(cè)試

已預(yù)約26次

平均周期7天  |  總體滿意度98%

立即預(yù)約

 全自動(dòng)旋光儀

全自動(dòng)旋光儀

已預(yù)約1530次

平均周期5.4天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 腐蝕性氣體吸附分析儀（BET）

腐蝕性氣體吸附分析儀（BET）

已預(yù)約3994次

平均周期12天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 折光儀

折光儀

已預(yù)約1714次

平均周期5天  |  總體滿意度99.8%

立即預(yù)約

 灰熔點(diǎn)測(cè)定儀

灰熔點(diǎn)測(cè)定儀

已預(yù)約1674次

平均周期9天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 覆壓孔滲測(cè)量?jī)x

覆壓孔滲測(cè)量?jī)x

已預(yù)約1259次

平均周期5天  |  總體滿意度98%

立即預(yù)約

 重量法磁懸浮吸附系統(tǒng)

重量法磁懸浮吸附系統(tǒng)

已預(yù)約1120次

平均周期10天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 顆粒形貌分析儀

顆粒形貌分析儀

已預(yù)約1387次

平均周期6天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 鏡質(zhì)體反射率

鏡質(zhì)體反射率

已預(yù)約2005次

平均周期10天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 顯微熔點(diǎn)儀

顯微熔點(diǎn)儀

已預(yù)約1085次

平均周期7天  |  總體滿意度98%

立即預(yù)約

 光學(xué)玻璃粘度儀

光學(xué)玻璃粘度儀

已預(yù)約1878次

平均周期5天  |  總體滿意度98%

立即預(yù)約

 四球摩擦試驗(yàn)機(jī)

四球摩擦試驗(yàn)機(jī)

已預(yù)約1110次

平均周期7天  |  總體滿意度98%

立即預(yù)約

 凝凍強(qiáng)度測(cè)試儀（凍力儀）

凝凍強(qiáng)度測(cè)試儀（凍力儀）

已預(yù)約856次

平均周期7天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 門尼粘度計(jì)

門尼粘度計(jì)

已預(yù)約1232次

平均周期10天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 藍(lán)光3D掃描儀

藍(lán)光3D掃描儀

已預(yù)約1133次

平均周期7天  |  總體滿意度98%

立即預(yù)約

 表面活性劑測(cè)試

表面活性劑測(cè)試

已預(yù)約1476次

平均周期7天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 FlowCam流式成像顆粒分析系統(tǒng)

FlowCam流式成像顆粒分析系統(tǒng)

已預(yù)約2019次

平均周期5天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 顯微式激光測(cè)振儀

顯微式激光測(cè)振儀

已預(yù)約2267次

平均周期8天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 剖面密度

剖面密度

已預(yù)約924次

平均周期7天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 微波光電導(dǎo)衰減壽命測(cè)試儀

微波光電導(dǎo)衰減壽命測(cè)試儀

已預(yù)約2737次

平均周期7天  |  總體滿意度97%

立即預(yù)約

 泡壓法表面張力儀

泡壓法表面張力儀

已預(yù)約3578次

平均周期7天  |  總體滿意度98%

立即預(yù)約

 哈氏可磨性指數(shù)測(cè)定儀

哈氏可磨性指數(shù)測(cè)定儀

已預(yù)約960次

平均周期7天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 平面激光干涉儀

平面激光干涉儀

已預(yù)約1762次

平均周期7天  |  總體滿意度98.5%

立即預(yù)約

 尺寸測(cè)量

尺寸測(cè)量

已預(yù)約1010次

平均周期7天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 油脂氧化分析儀

油脂氧化分析儀

已預(yù)約842次

平均周期7天  |  總體滿意度99.5%

立即預(yù)約

 漏電起痕儀

漏電起痕儀

已預(yù)約1241次

平均周期8天  |  總體滿意度97%

立即預(yù)約

 光澤度儀

光澤度儀

已預(yù)約934次

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立即預(yù)約

 脫硫脫硝

脫硫脫硝

已預(yù)約2809次

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立即預(yù)約

 巖石熱解儀

巖石熱解儀

已預(yù)約104次

平均周期7天  |  總體滿意度99.3%

立即預(yù)約

 費(fèi)氏粒度

費(fèi)氏粒度

已預(yù)約1899次

平均周期4天  |  總體滿意度99%

立即預(yù)約

 視頻旋轉(zhuǎn)滴界面張力儀

視頻旋轉(zhuǎn)滴界面張力儀

已預(yù)約3482次

平均周期7天  |  總體滿意度98%

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 成巖物理模擬系統(tǒng)

成巖物理模擬系統(tǒng)

已預(yù)約7次

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 逆反射標(biāo)志測(cè)量?jī)x

逆反射標(biāo)志測(cè)量?jī)x

已預(yù)約929次

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 定年分析

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已預(yù)約10次

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 變溫折射率測(cè)試

變溫折射率測(cè)試

已預(yù)約3826次

平均周期8天  |  總體滿意度99.8%

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 全自動(dòng)蒸氣壓測(cè)量?jī)x

全自動(dòng)蒸氣壓測(cè)量?jī)x

已預(yù)約1084次

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 耐水靜壓測(cè)試儀

耐水靜壓測(cè)試儀

已預(yù)約2688次

平均周期7天  |  總體滿意度98.9%

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 電解液浸潤(rùn)性測(cè)試系統(tǒng)

電解液浸潤(rùn)性測(cè)試系統(tǒng)

已預(yù)約10次

平均周期10天  |  總體滿意度99%

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 烏氏粘度計(jì)

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平均周期7天  |  總體滿意度99%

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常見問題

Q&A

Q：到底是發(fā)論文還是申請(qǐng)專利？
A：論文和專利都是技術(shù)的載體，論文審稿側(cè)重考察數(shù)據(jù)是否可靠、結(jié)論是否準(zhǔn)確，發(fā)明專利會(huì)經(jīng)過新穎性或創(chuàng)造性的審查，授權(quán)后獲得獨(dú)占權(quán)而受到法律保護(hù)，自己在先公開的論文會(huì)導(dǎo)致在后申請(qǐng)的專利失去新穎性或創(chuàng)造性，對(duì)于同一方案務(wù)必先申請(qǐng)專利再發(fā)表論文。
Q：專利申請(qǐng)為什么要趁早？
A：1.要防止創(chuàng)意或產(chǎn)品推出前被模仿。2.相關(guān)技術(shù)更新迭代、層出不窮，慢一步就會(huì)導(dǎo)致他人先公開自己的創(chuàng)意而無(wú)法獲得專利權(quán)。3.專利可以在升學(xué)評(píng)獎(jiǎng)、職稱考核、高企認(rèn)定等過程中添加砝碼，競(jìng)爭(zhēng)激烈，提早準(zhǔn)備更容易命中目標(biāo)。
Q：哪些不能申請(qǐng)專利？
A：1. 科學(xué)發(fā)現(xiàn);3. 疾病的診斷和治療方法;4. 動(dòng)物和植物品種;5. 用原子核變換方法獲得的物質(zhì);6. 對(duì)平面印刷品的圖案、色彩或者二者的結(jié)合作出的主要起標(biāo)識(shí)作用的設(shè)計(jì)。
Q：發(fā)明和實(shí)用新型有何區(qū)別？
A：1.保護(hù)客體不同，發(fā)明專利保護(hù)產(chǎn)品、方法或者改進(jìn)所提出的新的技術(shù)方案，實(shí)用新型專利只保護(hù)產(chǎn)品的形狀、構(gòu)造或者其結(jié)合所提出的適于實(shí)用的新的技術(shù)方案。2.審批程序不同，發(fā)明專利需要經(jīng)過實(shí)質(zhì)審查以確定滿足新穎性、創(chuàng)造性和實(shí)用性，審查時(shí)間更長(zhǎng)，實(shí)用新型不需要經(jīng)過實(shí)質(zhì)審查，創(chuàng)造性和技術(shù)水平較發(fā)明專利低，但實(shí)用價(jià)值大。3.保護(hù)期限不同，發(fā)明專利權(quán)的期限為二十年，實(shí)用新型專利權(quán)的期限為十年，外觀設(shè)計(jì)專利權(quán)的期限為十五年，均自申請(qǐng)日起計(jì)算。
Q：什么是技術(shù)交底書？
A：技術(shù)交底書是發(fā)明人和代理師溝通的基礎(chǔ)，應(yīng)當(dāng)涵蓋現(xiàn)有技術(shù)的問題是什么，發(fā)明人提出了什么樣的解決方案，達(dá)到了何種效果，以及希望保護(hù)的核心技術(shù)要點(diǎn)是什么，應(yīng)當(dāng)盡可能記錄技術(shù)內(nèi)容，充分描述技術(shù)細(xì)節(jié)，提供有力的證明材料，如此才能撰寫更高質(zhì)量的專利。
Q：如何才能更快獲得發(fā)明專利授權(quán)？
A：1.優(yōu)先審查，涉及特定的高端制造、節(jié)能環(huán)保、新材料、新能源等特殊領(lǐng)域，可以申請(qǐng)優(yōu)先審查，最快可在6-8個(gè)月獲得發(fā)明專利授權(quán)。2.通過保護(hù)中心的預(yù)審加快審查，進(jìn)入快速審查通道，可進(jìn)一步壓縮授權(quán)時(shí)間。
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