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X射線光電子能譜（XPS）

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 等離子體光譜儀（ICP-OES）

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 等離子體質(zhì)譜儀（ICP-MS）

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 X射線熒光光譜（XRF）

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 元素分析儀（EA）

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 離子色譜儀（IC）

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 質(zhì)譜儀（MS）

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 靜態(tài)二次離子質(zhì)譜（TOF-SIMS）

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 總有機(jī)碳/總無(wú)機(jī)碳/總氮/需氧量分析儀（TOC/TIC/TN/COD/BOD）

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 氧氮?dú)渎?lián)測(cè)儀（ONH分析）

氧氮?dú)渎?lián)測(cè)儀（ONH分析）

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 高效液相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用（HPLC-MS）

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 氣相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用（GC-MS）

氣相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用（GC-MS）

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 高效液相色譜（HPLC）

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 紅外碳硫儀

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 原子吸收光譜儀（AAS）

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 穆斯堡爾譜儀

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 氣相色譜（GC）

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 全自動(dòng)氨基酸分析儀

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 凱氏定氮儀

凱氏定氮儀

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 輝光放電質(zhì)譜儀（GD-MS）

輝光放電質(zhì)譜儀（GD-MS）

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 煤質(zhì)分析

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 俄歇電子能譜（AES）

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 化學(xué)滴定

化學(xué)滴定

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 未知成分分析

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 火花直讀光譜儀

火花直讀光譜儀

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 全自動(dòng)電位滴定儀

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 同位素

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 動(dòng)態(tài)二次離子質(zhì)譜儀（D-SIMS）

動(dòng)態(tài)二次離子質(zhì)譜儀（D-SIMS）

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 電子鼻

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 穩(wěn)定同位素

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 硫氮氯元素分析儀

硫氮氯元素分析儀

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 灰分測(cè)試

灰分測(cè)試

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 電子舌

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 脂肪測(cè)定儀（粗脂肪含量）

脂肪測(cè)定儀（粗脂肪含量）

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 原子熒光光譜儀（AFS）

原子熒光光譜儀（AFS）

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 微區(qū)XPS

微區(qū)XPS

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 紅外測(cè)油儀

紅外測(cè)油儀

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 氣相離子遷移譜聯(lián)用儀（GC-IMS）

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 激光誘導(dǎo)擊穿光譜儀（LIBS）

激光誘導(dǎo)擊穿光譜儀（LIBS）

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 OC/EC分析儀

OC/EC分析儀

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 液相色譜-原子熒光聯(lián)用（HPLC-AFS）

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 激光剝蝕（多接收)等離子體質(zhì)譜儀 LA-(MC)-ICP-MS

激光剝蝕（多接收)等離子體質(zhì)譜儀 LA-(MC)-ICP-MS

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 三維原子探針（APT）

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 杯突試驗(yàn)機(jī)

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 測(cè)汞儀

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 硫化氫分析儀

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 失效分析

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 薄層色譜儀（TLC）

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 低本底α/β測(cè)量?jī)x

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常見(jiàn)問(wèn)題

Q&A

Q：到底是發(fā)論文還是申請(qǐng)專利？
A：論文和專利都是技術(shù)的載體，論文審稿側(cè)重考察數(shù)據(jù)是否可靠、結(jié)論是否準(zhǔn)確，發(fā)明專利會(huì)經(jīng)過(guò)新穎性或創(chuàng)造性的審查，授權(quán)后獲得獨(dú)占權(quán)而受到法律保護(hù)，自己在先公開(kāi)的論文會(huì)導(dǎo)致在后申請(qǐng)的專利失去新穎性或創(chuàng)造性，對(duì)于同一方案務(wù)必先申請(qǐng)專利再發(fā)表論文。
Q：專利申請(qǐng)為什么要趁早？
A：1.要防止創(chuàng)意或產(chǎn)品推出前被模仿。2.相關(guān)技術(shù)更新迭代、層出不窮，慢一步就會(huì)導(dǎo)致他人先公開(kāi)自己的創(chuàng)意而無(wú)法獲得專利權(quán)。3.專利可以在升學(xué)評(píng)獎(jiǎng)、職稱考核、高企認(rèn)定等過(guò)程中添加砝碼，競(jìng)爭(zhēng)激烈，提早準(zhǔn)備更容易命中目標(biāo)。
Q：哪些不能申請(qǐng)專利？
A：1. 科學(xué)發(fā)現(xiàn);3. 疾病的診斷和治療方法;4. 動(dòng)物和植物品種;5. 用原子核變換方法獲得的物質(zhì);6. 對(duì)平面印刷品的圖案、色彩或者二者的結(jié)合作出的主要起標(biāo)識(shí)作用的設(shè)計(jì)。
Q：發(fā)明和實(shí)用新型有何區(qū)別？
A：1.保護(hù)客體不同，發(fā)明專利保護(hù)產(chǎn)品、方法或者改進(jìn)所提出的新的技術(shù)方案，實(shí)用新型專利只保護(hù)產(chǎn)品的形狀、構(gòu)造或者其結(jié)合所提出的適于實(shí)用的新的技術(shù)方案。2.審批程序不同，發(fā)明專利需要經(jīng)過(guò)實(shí)質(zhì)審查以確定滿足新穎性、創(chuàng)造性和實(shí)用性，審查時(shí)間更長(zhǎng)，實(shí)用新型不需要經(jīng)過(guò)實(shí)質(zhì)審查，創(chuàng)造性和技術(shù)水平較發(fā)明專利低，但實(shí)用價(jià)值大。3.保護(hù)期限不同，發(fā)明專利權(quán)的期限為二十年，實(shí)用新型專利權(quán)的期限為十年，外觀設(shè)計(jì)專利權(quán)的期限為十五年，均自申請(qǐng)日起計(jì)算。
Q：什么是技術(shù)交底書(shū)？
A：技術(shù)交底書(shū)是發(fā)明人和代理師溝通的基礎(chǔ)，應(yīng)當(dāng)涵蓋現(xiàn)有技術(shù)的問(wèn)題是什么，發(fā)明人提出了什么樣的解決方案，達(dá)到了何種效果，以及希望保護(hù)的核心技術(shù)要點(diǎn)是什么，應(yīng)當(dāng)盡可能記錄技術(shù)內(nèi)容，充分描述技術(shù)細(xì)節(jié)，提供有力的證明材料，如此才能撰寫(xiě)更高質(zhì)量的專利。
Q：如何才能更快獲得發(fā)明專利授權(quán)？
A：1.優(yōu)先審查，涉及特定的高端制造、節(jié)能環(huán)保、新材料、新能源等特殊領(lǐng)域，可以申請(qǐng)優(yōu)先審查，最快可在6-8個(gè)月獲得發(fā)明專利授權(quán)。2.通過(guò)保護(hù)中心的預(yù)審加快審查，進(jìn)入快速審查通道，可進(jìn)一步壓縮授權(quán)時(shí)間。
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